[发明专利]耐污染性优良的选择性分离膜的制造方法有效
申请号: | 02126106.7 | 申请日: | 2002-07-16 |
公开(公告)号: | CN1468649A | 公开(公告)日: | 2004-01-21 |
发明(设计)人: | 具滋永;金淳植;洪成杓;尹圣老 | 申请(专利权)人: | 世韩工业株式会社 |
主分类号: | B01D71/56 | 分类号: | B01D71/56;B01D69/12 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 范明娥;张平元 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 污染 优良 选择性 分离 制造 方法 | ||
【说明书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于世韩工业株式会社,未经世韩工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/02126106.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。