[发明专利]加强离子掺杂玻璃部件粘合接头粘合强度和耐久性的方法无效

专利信息
申请号: 02126354.X 申请日: 2002-07-18
公开(公告)号: CN1398809A 公开(公告)日: 2003-02-26
发明(设计)人: W·T·穆尔;M·塞夫洛;L·罗比泰勒;J·李;J·A·奥内尔;J·特纳;G·卡洛;R·布鲁斯 申请(专利权)人: JDS尤尼费斯公司
主分类号: C03C27/00 分类号: C03C27/00;C03C17/23;C03C17/28;C03C17/34
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 蔡胜有
地址: 加拿大*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 加强 离子 掺杂 玻璃 部件 粘合 接头 强度 耐久性 方法
【权利要求书】:

1.一种加强带有一个玻璃表面的元件与粘接剂之间的粘接性能的方法,粘接剂和玻璃表面决定其间粘接界面,该方法包括在玻璃表面与粘接剂间提供一层阻碍离子迁移的材料,该层不可剥离地粘接在粘接界面处的至少玻璃表面上。

2.根据权利要求1所述的方法,其中阻碍离子迁移的材料包括基本上纯的二氧化硅。

3.根据权利要求1所述的方法,其中粘接剂是一种环氧粘接剂。

4.根据权利要求1所述的方法,其中阻碍离子迁移的材料是一种包括一层二氧化硅层的多层镀膜层。

5.根据权利要求1所述的方法,其中阻碍离子迁移的材料包括氧化铝。

6.根据权利要求1所述的方法,其中在提供涂层的步骤之前用等离子清洁玻璃表面。

7.一个位于带有一个玻璃表面的元件与另一个元件或材料间的粘接接头,包括粘接剂和一层位于玻璃表面和粘接剂之间并且不可剥离地粘接在至少玻璃表面上的阻碍离子迁移的材料。

8.根据权利要求7所述的粘接接头,其中阻碍离子迁移的材料包括基本上纯的二氧化硅。

9.根据权利要求7所述的粘接接头,其中阻碍离子迁移的材料是一种包括一层二氧化硅层的多层镀膜层。

10.根据权利要求8所述的粘接接头,其中二氧化硅层的厚度为一微米量级或更薄。

11.根据权利要求7所述的粘接接头,其中阻碍离子迁移的材料包括氧化铝。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JDS尤尼费斯公司,未经JDS尤尼费斯公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/02126354.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top