[发明专利]抛光组合物及使用它的抛光方法

权利要求书

1.一种抛光组合物，它包含：

(a)至少一种选自二氧化硅和氧化铝的研磨剂；

(b)至少一种有机化合物，它选自聚环氧乙烷、聚环氧丙烷、聚氧乙烯烷基醚、聚氧丙烯烷基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚和由式(1)表示的具有C≡C三键的聚氧化烯加聚物：其中R₁-R₆各是H或C_1-10烷基，X和Y各是乙烯氧基或丙烯氧基，m和n各是1-20的正整数，

(c)至少一种选自柠檬酸、草酸、酒石酸、甘氨酸、α-丙氨酸和组氨酸的加速抛光的化合物；

(d)至少一种选自苯并三唑、苯并咪唑、三唑、咪唑和甲苯三唑的防腐蚀剂；

(e)过氧化氢；以及

(f)水。

2.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于所述有机化合物(b)包含(b1)，至少一种选自聚环氧乙烷、聚环氧丙烷和由上式(1)表示的具有C≡C三键的聚氧化烯加聚物的有机化合物；还包含(b2)，至少一种选自聚氧乙烯烷基醚、聚氧丙烯烷基醚和聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚的有机化合物。

3.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于所述有机化合物(b)包含(b3)，由上式(1)表示的具有C≡C三键的聚氧化烯加聚物；和(b2)，至少一种选自聚氧乙烯烷基醚、聚氧丙烯烷基醚和聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚的有机化合物。

4.如权利要求1-3中任一项所述抛光组合物，其特征在于由上式(1)表示的具有C≡C三键的聚氧化烯加聚物是由式(2)表示的二烷基二甲基丁炔二醇聚氧乙烯醚：其中R₁和R₂各是C_1-10烷基，m和n各是1-20正整数。

5.一种抛光方法，它包括用权利要求1-4中任一项所述的抛光组合物抛光半导体器件，该半导体器件包含形成于基材上的至少一层铜和一层含钽化合物。