[发明专利]纳米级分子筛及其合成方法无效
| 申请号： | 02132507.3 | 申请日： | 2002-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN1397494A | 公开（公告）日： | 2003-02-19 |
| 发明（设计）人： | 吴通好;阚秋斌;许宁;王东阳;吴鹏 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | C01B39/04 | 分类号： | C01B39/04 |
| 代理公司： | 长春吉大专利代理有限责任公司 | 代理人： | 王恩远,张景林 |
| 地址： | 130023 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纳米 分子筛 及其 合成 方法 | ||
1、一种纳米级分子筛，是结构为MWW拓扑骨架结构的MCM-49分子筛，其特征是，晶体为直径50～900nm、厚度为20～200nm的片状六方单晶。
2、一种权利要求1的纳米级分子筛的合成方法，所用原料包括硅源、铝源、碱、模板剂和水，采用水热合成方法，其特征是：首先将硅源、铝源、碱、模板剂和水按摩尔比计：SiO2/Al2O3＝10～35；OH-/SiO2＝0.05～1.0；R/SiO2＝0.07～3.0；H2O/SiO2＝10～50的比例混合，将该混合物在140～200℃条件下，晶化时间为12～240小时后取出，经水洗、干燥得MCM-49分子筛。
3、如权利要求2所述的纳米级分子筛的合成方法，其特征是：所述的原料中的硅源选自无定型二氧化硅、硅溶胶、硅胶、硅藻土或水玻璃中的至少一种，铝源选自铝酸钠、硫酸铝、硝酸铝、氯化铝、氢氧化铝、氧化铝、高岭土或蒙托土中的至少一种，碱选自氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化铷或氢氧化铯中的至少一种，R为模板剂，可以是六亚甲基亚胺。
4、按照权利要求3所述的纳米级分子筛的合成方法，其特征是：硅源、铝源、碱、模板剂和水的摩尔比是：SiO2/Al2O3＝15～35，OH-/SiO2＝0.05～0.30，R/SiO2＝0.07～2.0，H2O/SiO2＝10～30；晶化温度为160～190℃，晶化时间为18～120小时。
5、按照权利要求4所述的纳米级分子筛的合成方法，其特征是：硅源、铝源、碱、模板剂和水的摩尔比是：OH-/SiO2＝0.05～0.17、H2O/SiO2＝10～30、晶化温度为165～190℃，晶化时间为24～90小时。
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