[发明专利]基片处理装置、液处理装置和液处理方法

权利要求书

1.一种基片处理装置，具有：

传输路径，在水平方向上铺设基本水平地载送被处理基片用的传输体来构成；

传输驱动部件，驱动所述传输体，以在所述传输路径上传输所述基片；

处理液提供部件，包含向所述传输路径上的所述基片的被处理面提供规定处理液用的一个或多个喷嘴；和

基片倾斜部件，在所述传输路径上，向所述传输路径的前方或后方倾斜所述基片，以便液体因重力而从所述基片上落下。

2.根据权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：所述基片倾斜部件具有：升降部件，在传输路径的第一位置和其上方的第二位置之间移动基片；和倾斜状态保持部件，保持在第二位置上倾斜基片的状态。

3.根据权利要求2所述的基片处理装置，其特征在于：所述基片倾斜部件具有基片姿势切换部件，在第二位置上在水平状态和倾斜状态之间切换基片的姿势。

4.根据权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：所述基片倾斜部件具有：传输体倾斜部件，在移动传输路径上设定的区间中，在传输路径上的基本水平的第三位置和液体落下用的倾斜的第四位置之间移动传输体；和倾斜状态保持部件，保持在第四位置的传输体上倾斜基片的状态。

5.根据权利要求4所述的基片处理装置，其特征在于：具有离合器机构，使属于该区间的传输体可装卸地连接于传输驱动部件上。

6.根据权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：具有用于收集落到传输路径下面的液体的集液部件。

7.根据权利要求6所述的基片处理装置，其特征在于：所述集液部件在传输路径上前后邻接设定的第一和第二区间内包含分别用于收集落到传输路径下的液体的第一和第二集液部。

8.根据权利要求7所述的基片处理装置，其特征在于：所述处理液提供部件包含分别配置在第一和第二区间内的第一和第二喷嘴。

9.根据权利要求7所述的基片处理装置，其特征在于：所述基片倾斜部件包括第一基片倾斜部，该倾斜部使基片倾斜，以便在第一区间中提供的基片上的液体进入第二区间之前落入第一集液部中。

10.一种对基片进行规定液处理的液处理装置，具备：

第一液处理部，在基本保持水平姿势的基片上涂布处理液；

第二液处理部，从涂布了所述处理液的基片上去除所述处理液；和

基片传输机构，从所述第一液处理部向所述第二液处理部以基本水平姿势向一个方向传输基片，

所述第一液处理部具有处理液提供机构，从所述基片传输机构的基片传输方向的前方向后方，在所述基片上涂布所述处理液，

所述第二液处理部具有基片倾斜机构，抬起涂布了所述处理液的基片的传输方向的前方，将所述基片变换为倾斜姿势，去除涂布在所述基片上的处理液。

11.一种对基片进行规定液处理的液处理装置，具备：

第一液处理部，在基本保持水平姿势的基片上涂布第一处理液；

第二液处理部，从涂布了所述第一处理液的基片上去除所述第一处理液；和

基片传输机构，从所述第一液处理部向所述第二液处理部以基本水平姿势向一个方向传输涂布了所述第一处理液的基片，

所述第二液处理部具有：基片倾斜机构，抬起涂布了所述第一处理液的基片的一端，将所述基片变换为倾斜姿势，去除涂布在所述基片上的第一处理液；

处理液喷出喷嘴，从由所述基片倾斜机构保持为倾斜姿势的基片中流出所述第一处理液的残渣，向所述基片喷出第二处理液；和

喷嘴移动机构，沿由所述基片倾斜机构保持为倾斜姿势的基片表面，斜向移动所述处理液喷出喷嘴。