[发明专利]光刻装置和器件的制造方法有效
| 申请号： | 02145590.2 | 申请日： | 2002-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN1432875A | 公开（公告）日： | 2003-07-30 |
| 发明（设计）人： | K·D·范德马斯特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/22 | 分类号： | G03F7/22;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维尔*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
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