[发明专利]双金属氧化物-氮化物-氧化物半导体阵列金属位结构及单个单元操作无效
申请号: | 02146167.8 | 申请日: | 2002-10-30 |
公开(公告)号: | CN1494086A | 公开(公告)日: | 2004-05-05 |
发明(设计)人: | 大仓世纪;齐藤智也;大仓智子 | 申请(专利权)人: | 哈娄利公司 |
主分类号: | G11C16/04 | 分类号: | G11C16/04;H01L27/115;H01L21/8247 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 双金属 氧化物 氮化物 半导体 阵列 金属 结构 单个 单元 操作 | ||
【权利要求书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈娄利公司,未经哈娄利公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/02146167.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。