[发明专利]光投射处理设备和用它制造器件的方法及制成的器件，污染物的清洁设备和清洁方法无效
| 申请号： | 02151873.4 | 申请日： | 2002-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN1472601A | 公开（公告）日： | 2004-02-04 |
| 发明（设计）人： | W·范塞克;A·E·杜伊斯特温克;B·M·默藤斯;H·梅林;N·B·科斯特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B08B11/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张志醒 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 投射 处理 设备 制造 器件 方法 制成 污染物 清洁 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/02151873.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：调整聚焦位置的方法
- 下一篇：光刻设备和器件制造方法
