[发明专利]应用于光学补偿膜曝光的制程及其装置无效
申请号: | 02154329.1 | 申请日: | 2002-11-29 |
公开(公告)号: | CN1504811A | 公开(公告)日: | 2004-06-16 |
发明(设计)人: | 吴龙海 | 申请(专利权)人: | 力特光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/13363 | 分类号: | G02F1/13363;B32B27/00;C08J7/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 任永武 |
地址: | 台湾省桃园县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 应用于 光学 补偿 曝光 及其 装置 | ||
【说明书】:
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