[实用新型]曝光机的近似平行光控制增益结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种曝光机。

背景技术

随现代科技的进步，对开发产品的精密度要求极高，特别是高科技电子(如印刷电路板、主机板、晶圆片、液晶、光罩)、精细印刷的网点制版、负片(棕片)……等产品，以上产品均需曝光处理，参考图1、图2(a)(b)所示，即在曝光机的底部设置有一定点式灯箱100、一反光板10、一紫外线灯管11；在曝光机的透光台面101安置一原稿(棕片)12，再以一受曝光物(如机板、网点制版、负片)13与原稿(棕片)12相贴合，利用曝光机底部的灯箱100的紫外线灯管11光线，进行定点式曝光后再进行侵蚀或冲洗处理。

目前，因紫外线灯管的光线为向四面八方放射，放射的光线为0°至40°以上，参考图1所示，定点曝光方式0°至40°以上的光线放射经透光台面101、原稿(棕片)12、受曝光物13，其中除了放射光线的0°至10°左右曝光区不失真外，其余的曝光区都渐渐误差失真而无精密度可言。

实用新型内容

为了克服现有的曝光机部分曝光区有误差失真的不足，本实用新型提供一种曝光机的近似平行光控制增益结构。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：在灯箱的底部设置一反光板、一紫外线灯管，在紫外线灯管上方设有数片横向间隔排列的阻光片，另设一隔热玻璃和数片纵向间隔排列的阻光板。

所述纵向间隔排列的阻光板可是同步活动开、闭的阻光板。

本实用新型的有益效果是，灯箱设置在曝光机内近透光台面一定距离处，并可位移活动，利用阻光片、阻光板加以阻断0°至10°左右以外的紫外线灯管放射光线，仅令0°至10°左右以内的光线通过，形成近似平行光的光源，再利用往复位移曝光方式，以达提高曝光的准确精密度。

附图说明

图1所示现有的曝光方式的结构示意图；

图2所示现有曝光机的失真示意图；

图3所示本实用新型曝光机近似平行光控制增益结构的立体图；

图4所示本实用新型曝光机近似平行光控制增益结构的A-A剖视图；

图5所示本实用新型曝光机近似平行光控制增益结构的B-B剖视图；

图6所示本实用新型曝光机近似平行光控制增益结构的往复位移曝光示意图。

具体实施方式

以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。

参考图3所示中，本实用新型是在灯箱200的底部设置一反光板20、一紫外线灯管21，在紫外线灯管21上方设有数片横向间隔排列的阻光片22，另设一隔热玻璃23和数片纵向间隔排列的阻光板24，该阻光板24亦可设置为可同步活动开、闭的阻光板24，可便于曝光完毕后完全阻断光源。

参考图4、图5所示，灯箱200设置于曝光机内透光台面101一定距离并可位移活动，利用阻光片22、阻光板24加以阻断0°至10°左右以外的紫外线灯管21放射光线，仅令0°至10°左右以内的光线通过。参考图6(a)(b)所示，以往复方式位移放射于透光台面101、原稿(棕片)12、受曝光物13进行曝光，以达降低误差与失真率、提高曝光的准确精密度。