[发明专利]ZnS－SiO2溅射靶及使用该靶而形成了ZnS－SiO2相变化型光盘保护膜的光记录介质有效
| 申请号： | 02800011.0 | 申请日： | 2002-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN1455825A | 公开（公告）日： | 2003-11-12 |
| 发明（设计）人： | 矢作政隆;高见英生 | 申请（专利权）人： | 株式会社日矿材料 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08;G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 丁香兰,丁业平 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | zns sio2 溅射 使用 形成 相变 光盘 保护膜 记录 介质 | ||
【权利要求书】：
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