[发明专利]用于高击穿电压半导体器件的高阻碳化硅衬底有效
申请号: | 02809392.5 | 申请日: | 2002-05-08 |
公开(公告)号: | CN1507506A | 公开(公告)日: | 2004-06-23 |
发明(设计)人: | 史蒂花·穆勒 | 申请(专利权)人: | 克里公司 |
主分类号: | C30B29/36 | 分类号: | C30B29/36;H01L29/24;H01L21/04 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王永刚 |
地址: | 美国北*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 击穿 电压 半导体器件 碳化硅 衬底 | ||
【权利要求书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于克里公司,未经克里公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/02809392.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:铜镀液及用其镀覆基板的方法
- 下一篇:导纱辊