[发明专利]带有独立的等离子体密度/化学性质和离子能量控制的双频等离子体蚀刻反应器有效
| 申请号： | 02815529.7 | 申请日： | 2002-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN1539156A | 公开（公告）日： | 2004-10-20 |
| 发明（设计）人： | R·丁德萨;M·斯里尼瓦杉;E·兰茨;李鲁民 | 申请（专利权）人： | 拉姆研究有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 吴明华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 带有 独立 等离子体 密度 化学性质 离子 能量 控制 双频 蚀刻 反应器 | ||
【说明书】：
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