[发明专利]光刻用透射UV的混合氟化物晶体无效
申请号: | 02817909.9 | 申请日: | 2002-09-13 |
公开(公告)号: | CN1555499A | 公开(公告)日: | 2004-12-15 |
发明(设计)人: | D·C·埃兰;N·F·博雷利;C·M·史密斯;R·W·斯派罗 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G02B11/00;G03F1/00;G03C5/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 朱黎明 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 透射 uv 混合 氟化物 晶体 | ||
【权利要求书】:
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