[发明专利]用磁跟踪在含烃地层形成孔洞有效
| 申请号： | 02821105.7 | 申请日： | 2002-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN1575377A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 哈罗德·J·维内加;罗宾·A·哈特曼;克里斯托弗·A·普拉特;克里斯托弗·K·哈里斯;戈登·B·莱珀 | 申请（专利权）人： | 国际壳牌研究有限公司 |
| 主分类号： | E21B47/022 | 分类号： | E21B47/022;E21B47/09;G01V3/26;E21B43/30 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 朱德强 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 跟踪 地层 形成 孔洞 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际壳牌研究有限公司，未经国际壳牌研究有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/02821105.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
