[发明专利]使用电解还原和渗透的超导体材料的制造方法无效
| 申请号： | 02822309.8 | 申请日： | 2002-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN1585828A | 公开（公告）日： | 2005-02-23 |
| 发明（设计）人： | G·Z·陈;D·J·弗雷;B·A·格洛瓦基;颜晓勇 | 申请（专利权）人： | 剑桥大学技术服务有限公司 |
| 主分类号： | C22B34/24 | 分类号： | C22B34/24;B22F9/20;C25C3/26;C22B5/00;H01L39/24;C04B35/495 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蔡胜有 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 使用 电解 还原 渗透 超导体 材料 制造 方法 | ||
【说明书】：
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