[发明专利]使用高产率频谱散射量测法以控制半导体工艺的方法以及执行该方法的系统有效
| 申请号： | 02828386.4 | 申请日： | 2002-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN1623086A | 公开（公告）日： | 2005-06-01 |
| 发明（设计）人： | J·B·斯特顿;K·R·伦辛;H·E·纳里曼;S·P·里夫斯 | 申请（专利权）人： | 先进微装置公司 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956;G01N21/95;G01N21/47;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 戈泊;程伟 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 使用 高产 频谱 散射 量测法 控制 半导体 工艺 方法 以及 执行 系统 | ||
【权利要求书】：
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