[发明专利]沟槽形栅极的MIS器件的结构和制造方法有效
申请号: | 03107661.0 | 申请日: | 2003-03-24 |
公开(公告)号: | CN1455459A | 公开(公告)日: | 2003-11-12 |
发明(设计)人: | 阿纳普·巴拉;多曼·皮泽尔;杰克·科雷克;施晓荣;西克·路伊 | 申请(专利权)人: | 西利康尼克斯股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L21/336 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波,侯宇 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沟槽 栅极 mis 器件 结构 制造 方法 | ||
【权利要求书】:
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