[发明专利]掩模、附光反射膜基片、光反射膜制法与显示装置及电器有效
| 申请号： | 03110403.7 | 申请日： | 2003-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN1450393A | 公开（公告）日： | 2003-10-22 |
| 发明（设计）人： | 大竹俊裕;松尾睦;露木正 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B5/08;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯,叶恺东 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩模 反射 膜基片 制法 显示装置 电器 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社，未经精工爱普生株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/03110403.7/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：玻璃纱、玻璃纱包装以及玻璃纱的松弛方法
- 下一篇：受限使用医用探头
