[发明专利]对准方法、对准基底,光刻装置和器件制造方法无效
| 申请号： | 03110779.6 | 申请日： | 2003-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN1442757A | 公开（公告）日： | 2003-09-17 |
| 发明（设计）人： | J·洛夫;H·W·M·范比尔;桂成群;F·G·C·比宁 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 黄力行 |
| 地址： | 荷兰维尔*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 对准 方法 基底 光刻 装置 器件 制造 | ||
【权利要求书】：
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