[发明专利]用于微光刻法的先进的照明系统有效
| 申请号： | 03142709.X | 申请日： | 2003-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN1474235A | 公开（公告）日： | 2004-02-11 |
| 发明（设计）人： | 马克·奥斯考特斯凯;莱福·雷日科夫;斯高特·考斯坦;詹姆斯·察考印尼斯;沃特·奥格斯特茵 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/42;G02B3/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋世迅 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 微光 先进 照明 系统 | ||
【权利要求书】：
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