[发明专利]用于光刻工具的自动聚焦测量的系统和方法有效
| 申请号： | 03149340.8 | 申请日： | 2003-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN1484099A | 公开（公告）日： | 2004-03-24 |
| 发明（设计）人： | 约瑟夫·H·莱昂斯;约瑟夫·G·惠兰 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 工具 自动 聚焦 测量 系统 方法 | ||
【说明书】：
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