[发明专利]真空电弧沉积设备有效
| 申请号： | 03178688.X | 申请日： | 2003-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN1495282A | 公开（公告）日： | 2004-05-12 |
| 发明（设计）人： | 入泽一彦;簗岛英夫;瀬户山诚 | 申请（专利权）人： | 日新电机株式会社;日本ITF株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒;魏晓刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 电弧 沉积 设备 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日新电机株式会社;日本ITF株式会社，未经日新电机株式会社;日本ITF株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/03178688.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：低镍的奥氏体钢的应用
- 下一篇：匹配箱、使用匹配箱的真空装置及真空处理方法
- 同类专利
- 专利分类
