[发明专利]二氧化硅涂膜形成用组合物、二氧化硅涂膜及其制造方法、以及电子部件无效
| 申请号： | 03804816.7 | 申请日： | 2003-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN1639283A | 公开（公告）日： | 2005-07-13 |
| 发明（设计）人： | 樱井治彰;阿部浩一;榎本和宏;野部茂 | 申请（专利权）人： | 日立化成工业株式会社 |
| 主分类号： | C09D183/02 | 分类号： | C09D183/02;C09D183/04;C09D5/25 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 钟晶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 形成 组合 及其 制造 方法 以及 电子 部件 | ||
【说明书】：
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- 专利分类
C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
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