[发明专利]氮化镓(GaN)类化合物半导体装置及其制造方法有效
申请号: | 03812891.8 | 申请日: | 2003-06-04 |
公开(公告)号: | CN1659713A | 公开(公告)日: | 2005-08-24 |
发明(设计)人: | 佐藤寿朗;菅原智也;北泽慎二;村本宜彦;酒井士郎 | 申请(专利权)人: | 氮化物半导体株式会社 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 郭煜;庞立志 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 氮化 gan 化合物 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于氮化物半导体株式会社,未经氮化物半导体株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/03812891.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:热固性组合物、方法和制品
- 下一篇:光电子传感器装置