[发明专利]具有反铁磁耦合畴扩展双层结构的磁光记录介质无效
| 申请号： | 03815893.0 | 申请日： | 2003-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN1666273A | 公开（公告）日： | 2005-09-07 |
| 发明（设计）人： | H·W·范科斯特伦 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B11/105 | 分类号： | G11B11/105 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨生平;梁永 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 反铁磁 耦合 扩展 双层 结构 记录 介质 | ||
【说明书】：
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