[发明专利]二硼化物单晶衬底与使用它的半导体装置及其制造方法无效
| 申请号： | 03820514.9 | 申请日： | 2003-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN1678772A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | 大谷茂树;木下博之;松波弘之;须田淳;天野浩;赤崎勇;上山智 | 申请（专利权）人： | 独立行政法人物质·材料研究机构;京都陶瓷株式会社 |
| 主分类号： | C30B29/10 | 分类号： | C30B29/10;H01L29/12;H01S5/323 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 二硼化物单晶 衬底 使用 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
【说明书】：
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