[发明专利]通过气相外延法制造具有低缺陷密度的氮化镓膜的方法有效
| 申请号： | 03820771.0 | 申请日： | 2003-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN1678771A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | B·博蒙;P·吉巴尔特;J－P·福里 | 申请（专利权）人： | 卢米洛格股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/02 | 分类号： | C30B25/02;H01L33/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王杰 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 通过 外延 法制 具有 缺陷 密度 氮化 方法 | ||
【权利要求书】：
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