[发明专利]利用等离子体选择性地去除涂覆于形成在衬底上的负型光致抗蚀剂上的聚酰亚胺配向层并再利用衬底的方法无效
| 申请号： | 03825986.9 | 申请日： | 2003-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN1742226A | 公开（公告）日： | 2006-03-01 |
| 发明（设计）人： | 李承虎;金明儫;郑钟必 | 申请（专利权）人： | ICD股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 葛强;方挺 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 利用 等离子体 选择性 去除 形成 衬底 负型光致抗蚀剂上 聚酰亚胺 再利用 方法 | ||
【说明书】：
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