[其他]用于云纹干涉法的闪耀衍射光栅及试件栅制备工艺在审
| 申请号： | 101985000000054 | 申请日： | 1985-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN85100054B | 公开（公告）日： | 1986-10-22 |
| 发明（设计）人： | 傅承诵;吴振华;戴福隆 | 申请（专利权）人： | 清华大学;北京光学仪器厂 |
| 主分类号： | 分类号： | ||
| 代理公司： | 清华大学专利事务所 | 代理人： | 张秀珍 |
| 地址： | 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 干涉 闪耀 衍射 光栅 试件栅 制备 工艺 | ||
【权利要求书】：
1、一种由栅体和基体构成的光栅，其特征是用于云纹干涉法中的位相型闪耀衍射光栅，其沟槽断面形状为等腰三角形。
2、按照权利要求1所说的光栅，其特征在于该光栅为平行栅，栅线密度为50～1200线/毫米。
3、按照权利要求1所说的光栅，其特征在于该光栅为正交网格栅，栅线密度为50～1200线/毫米。
4、按照权利要求1，2，3所说的光栅，其特征在于所说的光栅是反射式闪耀衍射光栅，栅体为金属反射层（1）和胶层（2）组成，基体（3）为金属材料或玻璃、塑料、陶瓷等非金属材料（图1）。
5、按照权利要求1，2，3所说的光栅，其特征在于该光栅为透射式闪耀衍射光栅，栅体为透明胶层（4），基体（3′）为玻璃、石英、透明塑料等透明材料。
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