[其他]溅射太阳能选择性吸收涂层在审

专利信息
申请号: 101985000000142 申请日: 1985-04-01
公开(公告)号: CN85100142B 公开(公告)日: 1987-07-22
发明(设计)人: 殷志强 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: 分类号:
代理公司: 清华大学专利事务所 代理人: 胡兰芝
地址: 北京市海*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 溅射 太阳能 选择性 吸收 涂层
【权利要求书】:

1、一种溅射太阳能选择性吸收涂层,其特征是以沉积的铝膜为底层,以沉积的铝-氮(或铝-碳-氧)复合成分为吸收材料层,该吸收材料层的成分是渐变的。

2、按照权利要求1所说的溅射太阳能选择性吸收涂层,其特征是底层铝膜厚度不小于0.1×10-6m。

3、按照权利要求1或2所说的溅射太阳能选择性吸收涂层,其特征是吸收材料铝-氮(或铝-碳-氧)厚度在0.08×10-6m至0.25×10-6m。

4、按照权利要求1所说的溅射太阳能选择性吸收涂层,其特征是在该涂层上再盖一层铝-氧化合物薄膜,其厚度不小于0.04×10-6m。

5、按照权利要求1所说的溅射太阳能选择性吸收涂层,其特征是使用的铝阴极的纯度不低于95%。

6、一种制造如权利要求1所说的太阳能选择性吸收涂层的方法,其特征是在纯氩气中非反应溅射铝膜以后,于同一溅射室内,注入氩气与氮气(或一氧化碳)混合气体,随着氮气(或一氧化碳)的流量逐渐增加,相应沉积的吸收材料厚度增加,氮(或碳、氧)对铝原子数的比值亦增加,最表面是在纯氮(或纯一氧化碳)溅射沉积铝-氮(或铝-碳-氧)化合物。

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