[其他]取法生产荧光级氧化镧的工艺方法在审
申请号: | 101985000000148 | 申请日: | 1985-04-01 |
公开(公告)号: | CN85100148B | 公开(公告)日: | 1987-08-26 |
发明(设计)人: | 庄永能;徐景明;孟祖贵;宋崇立;张伟;朱永∴ | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | 分类号: | ||
代理公司: | 清华大学专利事务所 | 代理人: | 张志东;姚桂芬 |
地址: | 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 取法 生产 荧光 氧化 工艺 方法 | ||
一种萃取法生产荧光级氧化镧工艺方法,萃取剂为酸性磷类HEHEHP或HDEHP,通过分馏萃取,选择性反萃,实现产品的纯化。给出了HEHEHP和HDEHP萃取镧、锕的分配比和分离系数数学模型。萃取段出口、洗涤段水相pH要控制在一个合适的数值。本发明适用于独居石或其它稀土矿物所得氧化镧原料的深度加工,即生产荧光级氧化镧。工业应用的经济效益是明显的。
本发明属于化学工艺方法
荧光级氧化镧作为X-光增感屏,投影电视荧光粉等的原料,应用日趋广泛。生产荧光级氧化镧可以用离子交换,溶剂萃取等方法。但离子交换法成本高、产量小、工业生产很少应用。法国罗纳·普朗克公司和美国钼公司用溶剂萃取法生产荧光级氧化镧,但其具体技术未见专利和文献报导。
本发明适用于从独居石和其它稀土矿物所得氧化镧的深度加工,即生产荧光级氧化镧。
以独居石为原料生产的氧化镧中,含有放射性元素及多种非放射性杂质(其它稀土、钙、铁、铜、硅等)。用工业上现有的工艺方法,可使非放射性杂质含量达到荧光级标准,而放射性的去除一直是比较困难的问题。氧化镧中总α放射性强度约为n×10-6居里/公斤氧化镧,比要求高出两个数量级以上。因此,生产荧光级产品的关键是氧化镧中放射性的去除。
我们用多种方法研究了氧化镧中放射性的组成情况。发现其中含有三天然放射系的诸核素如U285、U234、Th228、Pa231、Ra228,Ra226、Ac227、Pb210o210在这些核素中,Ac227的子体是造成氧化镧α放射性污染的主要原因。
本发明选用的萃取剂为酸性磷类萃取剂:HEH-EHP(P507)HDEHP(P204),其结构式为
HEHEHP(P507)
HDEHP(P204)
式中R为2-乙基己基
萃取采用的有机相为萃取剂的煤油溶液,根据需要,萃取剂配成不同的浓度,并用氨水进行均相皂化,使其具有一定的皂化度。水相料液为镧的硝酸水溶液。
当有机相和水相充分接触时,在一定条件下,铀、钍、镧等元素按阳离子交换机理被萃入有机相。
Mn++n(HA)2M(HA2)n〉+nH+
而锕、镭、钙、铅等仍留在水相。用合适的稀硝酸反萃液化萃有机相,镧反萃下来而铀、钍、镤留在有机相,镧反萃液用草酸沉淀、灼烧,得到荧光级氧化镧产品。
本发明给出了HEHEHP煤油-HNO3体系、HDEHP煤油-HNO3体系下镧、锕的分配比,分离系数数学模型公式:
一、HEHEHP煤油-HNO3体系
a)当PN=1.15~20 C=0.032~0.83M时
DLa=0.076×1.52P×C(1.04-0.96×P)
×(0.033×H×P-P2+0.044×H)
DAC=0.013×1.001P×C(0.83-0.894×P)
×(0.048×H×P-P2+0.0063×H)
b)当PN=0.5~1.15 C=0.096~0.9M时
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