[其他]磁头滑块组件在审
| 申请号： | 101985000001172 | 申请日： | 1985-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN85101172B | 公开（公告）日： | 1988-07-27 |
| 发明（设计）人： | 长池完训;中岛博泰;大浦正树;竹下幸二 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | 分类号： | ||
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 吴增勇;赵蓉民 |
| 地址： | 日本东京都千*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁头 组件 | ||
【权利要求书】：
1、一种磁头滑块组件，包括：a）一个滑块，b）在该滑块上至少安装一个磁性传感器，其特征在于：组件中所述滑块是由包含氧化锆和6～9摩尔%的氧化钇的合成物加工而成。
2、根据权利要求1的磁头滑块组件，其中所述滑块有一个经切削或研磨的表面。
3、根据权利要求1的磁头滑块组件，其中所述合成物中氧化钇的含量基本是在8～9摩尔%范围。
4、根据权利要求1的组件，其中所述滑块具有一空气负载承受面10。
5、根据权利要求1或5的磁头滑块组件，其中所述合成物中的氧化锆为立方晶体结构。
6、一种制备磁头滑块组件的方法，其特征在于包括如下步骤：
提供氧化锆，作为合成物的一部分，
提供6～9摩尔%范围的氧化钇，作为合成物的一部分，
混合上述氧化锆和氧化钇，
烧结该混合物，
将至少一个磁性传感器装在所述合成物上。
7、根据权利要求15的方法，其中所述氧化钇的数量基本是在8～9摩尔%。
8、根据权利要求15的方法，其中，
在第一步中提供纯度为99.5%的氧化锆，
在第二步中提供纯度为99.5%的氧化钇，
在第三步中混合是在球磨机里进行，
在第四步中烧结是在真空热压中进行，从而产生合成物。
9、根据权利要求15或17的方法，其中第一步骤中提供的氧化锆基本是立方晶体结构。
10、根据权利要求15的方法，还包括在所述烧结后，在能保护立方晶体结构的前提下切削或研磨所述合成物。
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