[其他]一种掺金硅热敏电阻器及其制造方法在审

专利信息
申请号: 101985000002901 申请日: 1985-04-01
公开(公告)号: CN85102901B 公开(公告)日: 1988-03-02
发明(设计)人: 陶国强;陶明德 申请(专利权)人: 中国科学院新疆物理研究所
主分类号: 分类号:
代理公司: 中国科学院新疆专利事务所 代理人: 王蔚
地址: 新疆维吾尔族自治*** 国省代码: 新疆;65
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摘要:
搜索关键词: 一种 掺金硅 热敏 电阻器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1、N型单晶硅中掺金形成敏感体,在敏感体上化学镀镍形成欧姆接触,在镍层上焊接镀银铜线作引出线,并用环氧树脂包封的掺金硅热敏电阻器,其特征在于,敏感体是在N型单晶硅的两面扩散金构成高阻层掺金N型单晶硅片。

2、按照权利要求1的掺金硅热敏电阻器,其特征在于,所说的N型单晶硅的两面扩散金构成的高阻层,所含金的复合比为1至1.5。

3、一种制造掺金硅热敏电阻器的方法,敏感体用固相-固相扩散形成掺金高阻层,其特征在于,所用的固相扩散源是在N型单晶硅的两面涂敷的氯化金(AuCL·4H2O)涂层。

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