[其他]辐照显示薄膜剂量计及其制法在审

专利信息
申请号: 101985000004437 申请日: 1985-06-12
公开(公告)号: CN85104437B 公开(公告)日: 1987-11-25
发明(设计)人: 王艳乔;周小民;唐掌雄;张恭明 申请(专利权)人: 中国科学院化学研究所;中国农业科学院原子能利用研究所;北京市辐射中心
主分类号: 分类号:
代理公司: 中国科学院化学科研所 代理人: 黄永奎
地址: 北京市海*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 辐照 显示 薄膜 剂量计 及其 制法
【权利要求书】:

1、一种属于核辐射领域辐射加工技术中,60Coγ-射线辐射剂量监测和显示用的信息记录介质一辐照显示薄膜剂量计,其特征在于它由聚酯片基、碘化亚铜导电层以及含氯量为55~60%的偏二氯乙烯-丙烯酸甲酯共聚物和五甲氧基红制成的敏感乳剂层以及聚乙烯醇保护膜所组成。

2、按照权利要求1所述的辐照显示薄膜剂量计,其特征在于,敏感乳剂层还可由偏二氯乙烯-丙烯酸甲酯和热敏绿、热敏金红所组成。

3、一种用于制造权利要求1所述的辐照显示薄膜剂量计的方法,其特征在于先将聚酯片基用蒸馏水清洗干净,然后将聚酯片基置于真空镀膜机中进行连续镀膜,所采用的材料为电解铜,镀膜时真空室的真空度要高于105mmHg,使片基上蒸镀一层厚度为100~300的金属铜,然后将其置于2%碘的苯溶液中,制得透明的碘化亚铜导电层,再在导电层上涂布由含氯量为55~60%的偏二氯乙烯-丙烯酸甲酯共聚物和五甲氧基红组成的敏感乳剂层,涂层厚度约为10μm,进行真空干燥处理,最后涂上1~2μm厚的聚乙烯醇保护膜。

4、一种用于制造权利要求2所述的辐照显示薄膜剂量计的方法,其特征在于先将聚酯片基用蒸馏水清洗干净,然后将聚酯片基置于真空镀膜机中进行连续镀膜,所采用的材料为电解铜,镀膜时真空室的真空度高于10-5mmHg,使片基上蒸镀一层厚度为100~300的金属铜,然后将其置于2%碘的苯溶液中,制得透明的碘化亚铜导电层,再在导电层上涂布由含氯量为55~60%的偏二氯乙烯-丙烯酸甲酯共聚物和热敏绿、热敏金红组成的敏感乳剂层,涂层厚度约为10μm,进行真空干燥处理,最后涂上1~2μm厚的聚乙烯醇保护膜。

5、按照权利要求3所述的辐照显示薄膜剂量计的制法,其特征在于在敏感层中加入为树脂量3%的苯酚添加剂作为稳定剂。

6、按照权利要求3、4所述的辐照显示薄膜剂量计的制法,其特征在于15μm以上厚度的涂层较难控制其均匀性,需采用双面涂布技术。

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