[其他]用于气体分析器的多层膜干涉滤光器在审
申请号: | 101985000006181 | 申请日: | 1985-08-16 |
公开(公告)号: | CN85106181B | 公开(公告)日: | 1988-06-22 |
发明(设计)人: | 石田正彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社堀场制作所 |
主分类号: | 分类号: | ||
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 李强 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 气体 分析器 多层 干涉 滤光 | ||
【权利要求书】:
1、用于气体分析器中的多层膜干涉滤光器,它具有8μm附近的起始透过波长,其特征在于它包括叠置在Si基片的一个表面(切割面)上的两组膜层和叠置在该基片的另一个表面(短切面)上的四组膜层,所述各组膜层由以Ge作高折射率材料并以ZnS作低折射率材料的交替多层膜构成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社堀场制作所,未经株式会社堀场制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/101985000006181/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类