[其他]涂敷光刻胶的方法在审
| 申请号： | 101986000003644 | 申请日： | 1986-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN86103644B | 公开（公告）日： | 1988-11-23 |
| 发明（设计）人： | 伊藤铁男;田沼正之;込义之;门田和也;小林一成 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | 分类号： | ||
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 李勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 方法 | ||
【权利要求书】：
1、一种涂敷光刻胶的方法，包括下列步骤：将光刻胶旋转涂敷在衬底上，将掩膜图形转移到涂好的光刻胶膜上，而后对光刻胶膜进行曝光并将其显影，从而在衬底上形成图形，其特征在于还包括下列步骤：
（a）测量具有各种厚度的光刻胶显影图形以找出所测得的宽度-厚度曲线的极值;
（b）利用可响应所述光刻胶的厚度而变化的参数在衬底上形成光刻胶，所述参数设置到基本上与上述极值之一相应。
2、如权利要求1所述的涂敷光刻胶的方法，其特征在于：所述参数是给所述衬底涂敷光刻胶时旋涂器旋转的数目。
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