[其他]光记录装置在审

专利信息
申请号: 101986000007205 申请日: 1986-10-15
公开(公告)号: CN1004948B 公开(公告)日: 1989-08-02
发明(设计)人: 坪井信义;渡部笃美;佐藤美雄;田智;佐佐木宏 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: 分类号:
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人: 李强
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 记录 装置
【说明书】:

确定光记录介质在被加热到第一温度以上之后受到冷却的第一状态的光点,和确定光记录介质在被加热到室温以上但不超过第一温度的第二温度之后受到冷却的第二状态的光点,即,两个光点照在光记录介质上,并处在其上的同一导轨中,其中通过控制每个光点的光点直径和/或它们的光强,在光记录介质上记录和消抹信号。

发明涉及光记录装置,特别是涉及光记录方法和使用适于利用光记录介质的方法的装置,在上述光记录介质中信号是根据以下事实记录的,当光点照射到光记录介质上时,因为该处的温度升高,介质的光学特性发生了变化。

如在JP-A-59-68844中所描述的装置,在其中将激光聚集成大约1微米(um)的很小直径的激光束并照射到如覆盖着光敏记录材料的旋转光记录盘上,以使高密度地记录信号和再现记录的信号,这种装置具有下列优越到:因为高记录密度,所以可降低每位的存贮成本,可高速存取;在记录和读出过程中光学头和光记录盘互不接触并因此改进了光记录盘和光记录装置的可靠性,这样该装置已被看成给未来信息化社会提供的新的记录装置和介质。

作为用于光记录的记录介质,已提出如具有薄记录膜可由激光的热能蒸发在薄膜中产生小孔的介质的具有其光密度可由激光的热能改变的记录薄膜的介质。

另外,对于在其中光密度可改变的记录薄膜,已报道用非晶薄膜可以可逆地改变光密度。光密度可以可逆地改变的事实意味着信号可以记录,再现和抹掉;然而,由非晶材料制造的记录薄膜很不稳定,即,非晶材料的晶化也可在室温下发生,因而这种薄膜不适于长期储存记录的数据。(Te),硒(Se)和锡(Sn)用来提高记录的灵敏度;但这些材料对人体有害的影响,并且在制造薄膜时或处理上述材料的废弃物时,有产生污染问题的可能性。另外,高记录灵敏度意味着薄膜对于温度,光等的影响是敏感的,它导致保留记录数据的保持问题。

作为光记录介质,还发展了合金,在合金中可在两个不同的晶体状态之间发生相变,并可用这些晶体间光反射系数的不同实现信息的记录和消除。这种合金在JP-A-60-186825和JP-A-61-9542中描述。

对于有高密度记录能力的记录介质,特别需要高速记录功能去记录日益增加的信息量。

因此本发明的目的是提供光记录装置,在其中信息可以高速地记录。

本发明的另一目的是提供光记录装置,在其中信息可以高速地消抹和再记录。

本发明的另一目的是提供光记录的装置,在其中实现高温加热和高速冷却的记录操作以及进行加热和缓慢冷却的消抹操作是很容易完成的。

根据本发明的实施方案,光记录介质的记录位置预热到低于预定的记录所需温度的一个温度上,并根据记录信息将该位置加热到超过预定温度的温度,这样就将信息记录下来。更具体地,两个在位置上相邻的光点沿着记录轨道照在光记录介质上,其中的前光点预热记录位置,而后光点在其上记录信息。

根据本发明的另一实施方案,使用光记录介质,在其中通过将记录介质加热至等于或高于第一个温度的温度处实现记录操作,通过将记录介质加热到第一个温度与高于第一个温度的第二个温度之间的温度以实现消抹操作,在此两个相互紧邻的光点沿着记录轨道照在光记录介质上,使得前光点将记录位置加热到第一个温度和第二个温度之间的温度上,由此抹掉了记录的信息并同时预热了记录位置,而后光点根据待记录信息将记录位置加热到不低于第一个温度的温度上,从而记录了信息。

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