[其他]微裂纹铬电镀液及电镀方法在审
申请号: | 101987000000409 | 申请日: | 1987-01-26 |
公开(公告)号: | CN1004711B | 公开(公告)日: | 1989-07-05 |
发明(设计)人: | 郝瑞云 | 申请(专利权)人: | 北京市理化分析测试中心 |
主分类号: | 分类号: | ||
代理公司: | 北京科技专利事务所 | 代理人: | 王德桢 |
地址: | 北京市西三*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 裂纹 电镀 方法 | ||
1、一种微裂纹铬电镀液,其特征在于,其中含有铬酐,硫酸或其碱金属、碱土金属及铵的可溶性盐,氟硼酸或其碱金属、碱土金属及铵的可溶性盐,亚硒酸或硒酸、硒的可溶性氧化物或盐,以及十二烷基苯磺酸盐,镀液中所含铬酸酐(CrO3)、硫酸根(SO4)、氟硼酸根(BF4-)、硒(Se)及十二烷基苯磺酸盐的量为
CrO3 80~140g/l;
BF4 0.4~0.8g/l;
SO4= 0.4~0.8g/l;
Se:0.001~0.003g/l;
十二烷基苯磺酸盐:0.3~1.0g/l。
2、权利要求1所述的微裂纹铬电镀液,其特征在于,其中含有硫酸或硫酸铵、硫酸锶、硫酸钙,氟硼酸或氟硼酸钠、氟硼酸钾、氟硼酸铵,二氧化硒或硒酸、亚硒酸,以及十二烷基苯磺酸钠。
3、使用权利要求1或2所述电镀液的微裂纹铬电镀方法其特征在于,直流电源电路上加电感电容滤波装置,镀液温度在40℃~50℃范围内,电流密度为5~30安培/平方分米。
4、权利要求3所述的电镀方法,其特征在于,镀液温度在41℃~45℃范围内。
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