[其他]受到放射性污染材料的去污过程在审
申请号: | 101987000000443 | 申请日: | 1987-01-26 |
公开(公告)号: | CN87100443B | 公开(公告)日: | 1988-11-16 |
发明(设计)人: | 格德弗里德·莱门斯 | 申请(专利权)人: | 格德弗里德·莱门斯 |
主分类号: | 分类号: | ||
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 罗英铭;陈季壮 |
地址: | 比利时布拉斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 受到 放射性 污染 材料 去污 过程 | ||
本发明的过程主要包括:依次使受到污染的材料表面与碳酸钠溶液接触一段时间,使受到污染的材料表面与稀硝酸溶液接触,同时加高锰酸钾,再使受到污染的材料表面与乙二酸(COOH-COOH·2HO)接触,最后清洗和干燥所述的材料。
本发明涉及的是受到放射性污染的材料去污过程,换句话说,是将放射性物质与受到放射性污染的材料分开和清除的过程。尤其是,按本发明的过程,其目的是除去与放射性物质接触后,在物体表面上产生的所谓固定污染。
众所周知,将物体的放射性粒子与受到放射性污染的物体很好地分开是非常困难的。然而,本发明提供了一种新颖的过程,该过程用化学除污法可以从材料表面有效分离和有效除去放射性物质,而不需要复杂和困难的技术。
因此,按本发明的过程主要包括:使受到污染的材料表面依次与碳酸钠溶液相接触一段时间;该表面与热稀硝酸接触一段时间同时,向其中加入高锰酸钾;再使受到污染的材料在70℃与乙二酸(COOH-COOH·2H2O)的溶液相接触;最后,清洗并干燥如此处理过的物体。
为了更好地说明本发明的特征,下面用一个没有任何限定性特点的例子,详细地叙述上述过程。
如上文所述,根据本发明的第一步,是受到污染的材料至少是需要处理的表面与碳酸钠溶液接触。然而最好使碳酸钠首先加热溶解,用这种方法即可得到强碱溶液。通过这种经过很好加热的溶液与污染表面接触即可预先除去硼,这些硼通常出现在污染表面上,并使除去材料上的放射性粒子更加困难。
碳酸钠的温度最好至少是80℃。上述进行接触期间的时间可以根据需要处理的表面的重要性和放射性污染的类型与强度进行选择,在大多数情况下,5~30分钟的接触期即足够子。
本发明的第二个步骤包括,在第一步完成以后,使受到污染的材料与加入高锰酸钾的稀硝酸相接触。但首先由加热稀硝酸开始;然后,使第一步处理的物体与这种稀硝酸接触;在这种情况下再将最好是粒状的高锰酸钾加到稀硝酸中。为了在稀硝酸和高锰酸钾之间产生良好的作用,使硝酸加热到70℃,而在高锰酸钾加入的期间内,要保持恒定的循环。由本发明的第二个步骤,可以使高锰酸根离子(MnO-4)固定到污染的粒子,这一点可由处理过的材料表面显示黑的颜色得到证明。
加到稀硝酸中高锰酸钾的量,与在第二步中使要处理的材料保持与有关物质接触期的长短,可根据要处理材料的大小、表面,以及放射性污染的种类,强度进行选择。但,以每1000升稀硝酸加入1公斤高锰酸钾的比例为好。
本发明的第三个步骤是,在第二步已完成之后,使受到污染的材料与乙二酸溶液相接触。最好是在提高温度的情况下进行接触,这样做的优点是,发生在本步骤期间内的过程的反应速度可大大提高。在本发明过程的第三步期间内,可以实现使高锰酸根离子和放射性污染粒子与需要处理的材料表面分开,如看到,要处理的材料出现了灰白的表面那么乙二酸溶液已足够强,由此可以说明,表面上没有留下高锰酸钾的痕迹。然而,最好使采用的浓度这样选择,一方面与乙二酸溶液的量有关,另一方面与第二步所述的混合物,即稀硝酸与高锰酸钾的混合物有关,以便得到中性的产物。
按本发明的第四步,即最后一步,是清洗和干燥处理过的材料,清洗步骤是用软水完成的。
但是,如果在清洗前发现,污染仍很严重,那么,用增加高锰酸钾和乙二酸的方法还可以按本发明所述过程的第二步第三步至少重复处理一次。
使受到污染的物体与上述溶液进行良好的接触最好用浸入法。因此,根据本发明的过程对于较小的工具和器件的去污是非常方便的,例如实验室中的工具和器件。然而并不排除本发明也适用于大型受到污染的物体,此时物体与各种溶液的接触可以通过湿蒸法或其它的表面处理法完成。
按照本发明,若有需要,各种残渣物也可整批地除去。
用正确的混合比混合这些残渣,实际上可以得到中性(pH=7)的混合物,其优点在于,可以处理核装置的循环废水,而不用担心会产生损害,妨碍或其它缺点的危险。
很明显,实现上述过程可有许多变化,而可以采用各种浓度、混合比和接触时间,但并未脱离本发明的范围。
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