[发明专利]光刻装置及确定束尺寸和发散度的方法有效
| 申请号： | 200310114318.4 | 申请日： | 2003-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN1500911A | 公开（公告）日： | 2004-06-02 |
| 发明（设计）人： | L·J·H·G·W·蒂乌文 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 确定 尺寸 发散 方法 | ||
【说明书】：
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