[发明专利]沸石溶胶及其制法、多孔膜形成用组合物、多孔膜及其制法、层间绝缘膜和半导体装置无效
| 申请号： | 200310114941.X | 申请日： | 2003-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN1519197A | 公开（公告）日： | 2004-08-11 |
| 发明（设计）人： | 荻原勤;八木桥不二夫;中川秀夫;笹子胜 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社;松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | C01B39/04 | 分类号： | C01B39/04 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王维玉;丁业平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溶胶 及其 制法 多孔 形成 组合 绝缘 半导体 装置 | ||
【权利要求书】：
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