[发明专利]低压反应离子镀方法制备碳锗合金膜无效
| 申请号： | 200310115962.3 | 申请日： | 2003-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN1554800A | 公开（公告）日： | 2004-12-15 |
| 发明（设计）人： | 王笑夷;高劲松 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/06 |
| 代理公司： | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人： | 王立伟 |
| 地址： | 130031吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 低压 反应 离子镀 方法 制备 合金 | ||
【权利要求书】：
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