[发明专利]画素结构及其制造方法有效
| 申请号： | 200310121501.7 | 申请日： | 2003-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN1547067A | 公开（公告）日： | 2004-11-17 |
| 发明（设计）人： | 杨健生 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136;G02F1/01;H01L29/786 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 结构 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司，未经友达光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200310121501.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电解电容器铝箔连续退火工艺
- 下一篇：一种铝电解原料工业冰晶石的分析方法
