[发明专利]抗腐蚀稀土金属基永磁体的制造方法、抗腐蚀稀土金属基永磁体、工件的浸渍旋涂方法及在工件上形成涂层膜的方法有效
| 申请号： | 200380100478.1 | 申请日： | 2003-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN1692458A | 公开（公告）日： | 2005-11-02 |
| 发明（设计）人： | 吉村公志;大谷智郁 | 申请（专利权）人： | 株式会社新王磁材 |
| 主分类号： | H01F41/02 | 分类号： | H01F41/02;C23C26/00;B05C11/08;B05C13/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 腐蚀 稀土金属 永磁体 制造 方法 工件 浸渍 形成 涂层 | ||
【权利要求书】：
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