[发明专利]含金属－氧键的分散质、金属氧化物膜以及单分子膜无效
| 申请号： | 200380103054.0 | 申请日： | 2003-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN1711213A | 公开（公告）日： | 2005-12-21 |
| 发明（设计）人： | 木村信夫;藤田佳孝;中本宪史;土岐元幸;樋口章二;小野和男;肥高友也;武田博行 | 申请（专利权）人： | 日本曹达株式会社 |
| 主分类号： | C01B13/32 | 分类号： | C01B13/32;B05D1/20;B05D7/02 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐谦 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属 分散 氧化物 以及 分子 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本曹达株式会社，未经日本曹达株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200380103054.0/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
