[发明专利]清洁片和基板处理装置的清洁方法有效
| 申请号： | 200380104054.2 | 申请日： | 2003-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN1717285A | 公开（公告）日： | 2006-01-04 |
| 发明（设计）人： | 寺田好夫;并河亮;丰田英志 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | B08B1/00 | 分类号： | B08B1/00;H01L21/304;G02F1/13;H01L21/68 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 贾静环;宋莉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洁 处理 装置 方法 | ||
【权利要求书】：
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