[发明专利]在异质衬底上制作晶体半导体薄膜的方法无效
| 申请号： | 200380104762.6 | 申请日： | 2003-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN1720356A | 公开（公告）日： | 2006-01-11 |
| 发明（设计）人： | A·阿伯利;P·I·怀登伯格;A·斯特劳布;D－H·纽豪斯;O·哈特利;N－P·哈德 | 申请（专利权）人： | 单检索有限公司 |
| 主分类号： | C30B28/02 | 分类号： | C30B28/02;H01L31/18;H01L21/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蔡胜有 |
| 地址： | 澳大利亚*** | 国省代码： | 澳大利亚;AU |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 衬底 制作 晶体 半导体 薄膜 方法 | ||
【说明书】：
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