[发明专利]碱溶解型光刻用形成填隙材料的组合物有效
| 申请号： | 200380107353.1 | 申请日： | 2003-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN1732410A | 公开（公告）日： | 2006-02-08 |
| 发明（设计）人： | 竹井敏;石井和久;荒濑慎哉 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;H01L21/027;H01L21/30 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溶解 光刻 形成 填隙 材料 组合 | ||
【说明书】：
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