[发明专利]用于高级微电子应用的平面化薄膜及其生产装置和方法无效
| 申请号： | 200380110394.6 | 申请日： | 2003-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN1802603A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | W·黄;J·肯尼迪;R·卡特萨尼斯 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | G03C1/00 | 分类号： | G03C1/00;B05D5/12;B32B27/42;C08J3/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 韦欣华;段晓玲 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 高级 微电子 应用 平面化 薄膜 及其 生产 装置 方法 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于霍尼韦尔国际公司，未经霍尼韦尔国际公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200380110394.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：罗汉松属萃取物及其制造方法
- 下一篇：防止显示器预烧效应的方法和设备
